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厂家直销CIK/切可 NKD2000高纯氧化铝粉研磨分散机 欢迎咨询

型    号:
更新时间:2017-07-06

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厂家直销CIK/切可 NKD2000高纯氧化铝粉研磨分散机 欢迎咨询产品概述:

期待您的来电!如您有购买产品的意向,欢迎随时来参观本公司,了解我们的机器,本公司销售产品皆配有样机可供客户试机等,以便您选购!!!

 

【产品介绍】

一、产品名称:高纯氧化铝粉研磨分散机,氧化铝粉高速分散机,高纯氧化铝浆料分散机,金属氧化物研磨分散机,化工研磨分散机

 

二、高纯氧化铝粉的性质及应用

 

氧化铝是白色晶状粉末、具有多孔性、高分散性和绝缘性等特点。高纯氧化铝氧粉,又称三氧化二铝,分子量102,是一种白色无定形粉状物,俗称矾土。

 

高纯氧化铝的应用:

 

一般3N高纯氧化铝主要应用于先进陶瓷,4N主要应用于荧光粉,5N应用于蓝宝石晶体、锂电池隔膜、高级陶瓷等。

 

高端:应用于锂电池隔膜及陶瓷涂层、对纯度、粒径、形貌等有严格要求,需要使用4N5N以上及纳米尺度的超细高纯氧化铝。

 

中端:应用于LED上游产业链,蓝宝石衬底,对纯度、杂质、产品稳定性的要求较为严格,需要使用4N5N以上及纳米尺度的超细高纯氧化铝。

 

低端:集成电路基板、消费电子,紫外固化涂料等方面的应用,需要使用4N级别左右的高纯超细氧化铝,整体要求相对较低。

 

              

三、高纯氧化铝粉的应用工艺

 

主要是将高纯氧化铝粉均匀的分散到须改性的基质当中,然而传统的分散设备无法满足分散效果的要求,传统分散设备转速较低,一般为3000rpm。而采用CIK管线式研磨分散机,转速高达14000rpm,另外独特的结构设计,将胶体磨和分散机一体化,先研磨后分散,分散粒径更小,粒径分布更均匀。

 

四、CIK化工研磨分散机的优势

 

1、上海CIK研磨式分散机可以很好的解决这一问题,“胶体磨+分散机”的独特结构,一级研磨模块可以将团聚体研磨打开,第二级分散模块再瞬间对物料进行充分的分散,一步到位,效果好,效率高。

  

2、传统分散设备转速一般不足3000rpm,难以分散。而CIK研磨分散机转速高达14000rpm,剪切速率高,可以充分的将石墨烯分散到涂料当中。  

 

3、CIK研磨分散机采用管线式分体式结构,物料从进口进入设备工作腔中,进行处理,然后再从出口打出,物料100%得的剪切细化分散,产品更均匀稳定。另外可以实现在线式生产,满足大工业化生要求。

五、NKD2000系列高纯氧化铝粉研磨分散机选型表

 

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

NKD2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

NKD2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

NKD2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

NKD2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

NKD2000/30

20000

1,420

23

55

DN150/DN125

NKD2000/50

60000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

 

 

 

 

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