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纳米二氧化硅分散机

型    号:NKD2000
更新时间:2017-07-06

纳米二氧化硅分散机,纳米二氧化硅超细分散机,纳米二氧化硅高速分散机,纳米二氧化硅研磨分散机。是由高科技产品而组成的产品。有金属碳化物或陶瓷涂层的锥磨转子,另有医药及食品级材质,可满足客户不同需求。

纳米二氧化硅分散机产品概述:

期待您的来电!如您有购买产品的意向,欢迎随时来参观本公司,了解我们的机器,本公司销售产品皆配有样机可供客户试机等,以便您选购!!!

 

【产品介绍】

一、产品名称:

  纳米二氧化硅分散机,纳米二氧化硅超细分散机,纳米二氧化硅高速分散机,纳米二氧化硅研磨分散机。

 

二、纳米二氧化硅性质及应用

  纳米二氧化硅是极其重要的高科技超微细无机材料之一,因其粒径很小,比表面积大,表面吸附力强,表面能大,化学纯度高、分散性能好,热阻、电阻等方面具有特异的性能,以其优越的稳定性、补强性、增稠性和触变性,在众多学科及领域内独具特性,有着不可取代的作用。

  纳米二氧化硅俗称“超微细白炭黑”,广泛用于各行业作为添加剂、催化剂载体,石油化工,脱色剂,消光剂,橡胶补强剂,塑料充填剂,油墨增稠剂,高级日用化妆品填料及喷涂材料、医药、环保等各领域。

 

三、纳米二氧化硅分散应用及难点

  纳米二氧化硅分散在多个领域都有着重要的应用,如:改性树脂,改性纺织材料,改性涂料,改性橡胶等等。改性的效果取决于分散的效果,粒径越小分散越均匀,分散效果就越好。CIK研磨分散机独特的结构,全新的技术,专业应对于纳米级物料的分散,先研磨后分散,避免团聚,分散效果好。

           
  对于纳米的物料分散一直是人们关注的热点,纳米分散存在着难以解决的问题,纳米物料分散到流体物质当中容易形成二级团聚体,导致物料粒径变大,难以分散。面对这种情况,CIK研发出新型设备-研磨分散机,应对纳米物质的分散问题。并有着广泛的实例,如纳米级白炭黑的分散,纳米级石墨烯的分散,都在使用CIK研磨分散机进行分散处理,效果显著。

 

四、CIK纳米二氧化硅分散机结构

  纳米分散设备是CIK(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。 

 

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
 

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。    


五、CIK特点

①线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。

②定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

六、CIK选型表

 

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

NKD2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

NKD2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

NKD2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

NKD2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

NKD2000/30

20000

1,420

23

55

DN150/DN125

NKD2000/50

60000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

 

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