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上海CIK直销CDL2000纳米碳酸钙分散机 欢迎咨询

型    号:
更新时间:2017-07-06

上海CIK直销CDL2000纳米碳酸钙分散机 ,纳米碳酸钙研磨分散机,纳米碳酸钙分散设备,碳酸钙分散机,超细分散机,纳米分散机可生产粒径较大单粒径分布范围较窄的乳液。它具有较高的剪切率,保证了混合液的稳定性。选用不同的分散头(转子+定子)组合,可满足不同的工艺和流体学要求。

上海CIK直销CDL2000纳米碳酸钙分散机 欢迎咨询产品概述:

期待您的来电!如您有购买产品的意向,欢迎随时来参观本公司,了解我们的机器,本公司销售产品皆配有样机可供客户试机等,以便您选购!!!

 

【产品介绍】

一、产品名称:纳米碳酸钙分散机,纳米碳酸钙研磨分散机,纳米碳酸钙分散设备,碳酸钙分散机,超细分散机,纳米分散机

 

二、纳米碳酸钙简介

纳米碳酸钙又称超微细碳酸钙。标准的名称即超细碳酸钙。纳米碳酸钙应用成熟的行业是塑料工业主要应用于高档塑料制品。可改善塑料母料的流变性,提高其成型性。用作塑料填料具有增韧补强的作用,提高塑料的弯曲强度和弯曲弹性模量,热变形温度和尺寸稳定性,同时还赋予塑料滞热性。纳米碳酸钙用于油墨产品中体现出了优异的分散性和透明性和极好的光泽、及优异的油墨吸收性和高干燥性。纳米碳酸钙在树脂型油墨中作油墨填料,具有稳定性好,光泽度高,不影响印刷油墨的干燥性能.适应性强等优点。

三、纳米碳酸钙的分散难点

纳米碳酸钙分散到水中或者溶剂当中,容易出现抱团的现象,导致物料粒径变大,分散效果不佳,产品改性不充分。如果使用普通的分散设备,很难将纳米碳酸钙分散均匀,会出现团聚的现象,团聚体难以打开,而如果采用CIK新研发的分散设备,研磨分散机的话,先研磨后分散机,解决团聚问题,可达纳米碳酸钙还原至纳米级。
3

   

          


四、CIK纳米碳酸钙分散设备简介

CIK研磨式分散机,是由胶体磨+分散机结合而成的设备,主要是为了解决纳米级物料的分散,如:纳米碳酸钙、纳米氢氧化镁、纳米氧化铝、石墨烯、碳纳米管等纳米级物料的分散。


CDL2000系列研磨分散设备是CIK(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,4P,6F,8SF等六种乳化头供客户选择)

五、
CDL2000系列纳米碳酸钙分散机的特点:

① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。

④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

产品选型表:

    型号    

  zui大处理量  

L/H

  输出转速  

rpm

  标准线速度  

m/s

  马达功率  

KW

  进出口尺寸  

CDL2000/4

300-1000

9,000

23

2,.2

DN25/DN15

CDL2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CDL2000/10

8,000

4,200

23

15

DN50/DN50

CDL2000/20

20,000

3,000

23

22

DN80/DN65

CDL2000/30

40,000

1,500

23

37

DN150/DN125

CDL2000/40

70,000

1,500

23

55

DN150/DN125

CDL2000/50

125,000

1,100

23

110

DN200/DN150

 

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。

3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。

4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。

 

 

 

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