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纳米胶体磨

型    号:NK2000
更新时间:2019-08-09

纳米胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

纳米胶体磨产品概述:

  纳米胶体磨。NK2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 CIK纳米高剪切胶体磨,纳米德国高剪切胶体磨,纳米进口高剪切胶体磨胶体磨是胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

  纳米胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

CIK纳米高剪切胶体磨。NK2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。


    CIK纳米高剪切胶体磨  三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。


影响分散研磨结果的因素有以下几点

1、胶体磨磨头头的剪切速率  (越大,效果越好)
2、胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
3、物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
4、循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。 
– 剪切速率 (s-1) =     v  速率 (m/s)   
             g 定-转子 间距 (m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素: 
– 转子的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
CIK 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

zui高转速可以达到14000RPM。此款胶体磨比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上,分散乳化均质研磨效果非常好。

 纳米胶体磨信息来源于:http://www.ciksh。。com/ProductShow_16.html

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